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钙钛矿涂膜调平装置及调平方法.pdfVIP

钙钛矿涂膜调平装置及调平方法.pdf

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    本发明属于钙钛矿涂膜技术领域，公开了钙钛矿涂膜调平装置及调平方法。钙钛矿涂膜调平装置用于对晶硅组件进行调平，以在晶硅组件上涂布钙钛矿层，包括基准平台、晶硅组件承载机构和激光测距机构，基准平台中间设置有避让孔。晶硅组件承载机构设置于避让孔内，晶硅组件承载机构用于承载晶硅组件，且能够调节晶硅组件的水平度。激光测距机构设置于基准平台上方，激光测距机构用于对基准平台以及晶硅组件进行多个测量点的高度检测。该钙钛矿涂膜调平装置及调平方法能够较为精准、快捷地检测出晶硅组件与基准平面之间的共面偏差，并实时调节晶

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117377361A

    (43)申请公布日2024.01.09

    (21)申请号202311668388.8B05C13/02(2006.01)

    (22)申请日2023.12.

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