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本发明提供一种碳化硅晶圆干进干出式电化学机械抛光装置及方法，属于电化学机械抛光技术领域，电化学机械抛光装置包括电化学处理单元、机械抛光单元、清洗干燥单元和第一运载单元，机械抛光单元用于对电解后的待处理晶圆进行抛光处理；清洗干燥单元包括清洗组件和干燥组件，所述清洗组件用于对抛光处理后的晶圆进行清洗，所述干燥组件用于干燥清洗后的晶圆；第一运载单元用于运载所述待处理晶圆在所述电化学处理单元、所述机械抛光单元和所述清洗干燥单元之间移动。本发明提供的碳化硅晶圆干进干出式电化学机械抛光装置，各个工艺单元设置
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117364217A
(43)申请公布日2024.01.09
(21)申请号202311555749.8
(22)申请日2023.11.21
(71)申请人北京晶亦精微科技股份有限公司
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