蚀刻液、蚀刻方法及电子部件的制造方法.pdfVIP

蚀刻液、蚀刻方法及电子部件的制造方法.pdf

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本发明的实施方式的蚀刻液是用于氮化硅的蚀刻的蚀刻液，其包含磷酸、具有比磷酸的第1酸解离指数pKa1小的酸解离指数的酸、硅酸化合物和水。磷酸的质量M1与酸的质量M2之比M1/M2在0.82以上且725以下的范围内。

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN109478509A

(43)申请公布日

2019.03.15

(21)申请号201880

知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来，知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作，经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。

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用户编号：5333241143000144

认证主体北京中献电子技术开发有限公司

IP属地四川

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