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本发明属于光学技术领域，具体涉及一种入射杂光的滤除装置和光学成像系统。一种入射杂光的滤除装置，基于在入射光线中、所需光线与杂光相对于光学元件的入射角度具有特殊性，对入射光线中的杂光进行过滤；该滤除装置包括基板和遮光片；所述基板由不可透光材质制成，所述基板上开设有贯穿该基板顶面和底面的透光孔，且该透光孔上端的口径大于该透光孔下端的口径；所述遮光片用于遮挡入射光线；所述遮光片设于所述遮光孔下端开口的正上方，且所述遮光片的尺寸大于所述遮光孔下端开口的尺寸。本发明从消除杂光的角度上考虑，能够有效消除杂光
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117388967A
(43)申请公布日2024.01.12
(21)申请号202311327500.1
(22)申请日2023.10.13
(71)申请人北京遥感设备研究所
地址100
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