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掺杂不同钛含量氮化锆薄膜的制备

本研究通过磁控溅射技术制备了一系列掺杂不同钛含量的氮化锆薄膜。具体制备步骤如下：

首先，选取纯氮化锆靶材和一定比例的钛靶材。将靶材放置在真空室内，然后抽取气压，使系统内部压力保持在10^-3Pa以下。

接下来，打开磁控溅射设备的电源，通电使得靶材上的粒子受到电场力的作用并释放出。利用磁场的作用，粒子在真空室内形成带电空间，最后沉积在基板上。

在掺杂过程中，根据实验设计，调节靶材的比例，控制钛的含量。同时，通过改变溅射时间和溅射功率等参数，可以控制沉积的薄膜厚度。

制备完成后，利用扫描电子显微镜（SEM）对样品进行表面形貌观察。并使用X射线衍射（XRD）