一种平面栅六边形元胞SIC MOSFET结构.pdfVIP

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  • 2024-01-17 发布于四川
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本发明公开一种平面栅六边形元胞SICMOSFET结构,包括多个并联的六边形MOS元胞,六边形MOS元胞六个边相邻位置均分布有六边形MOS元胞,相邻六边形MOS元胞至少有一边平行,六边形MOS元胞具有多晶硅栅极,多晶硅栅极下侧具有一层栅氧层,栅氧层上具有一凸起段,突起段位于六边形MOS元胞的JFET区上方,使得雪崩击穿时的电场强度进行抑制热载流子注入,自身具有较大的电流密度,在发生雪崩击穿或栅源过压时,可在瞬间通过热载流子,进一步降低栅氧内的电场强度,进而缓解热载流子注入效应,实现更佳效果的降低

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117410313A

(43)申请公布日2024.01.16

(21)申请号202311463782.8

(22)申请日2023.11.06

(71)申请人杭州谱析光晶半导体科技有限公司

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