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本实用新型揭示一种涂布模头，包括：上模头、下模头、垫片以及第一填充块，上模头与下模头正对设置，垫片位于上模头与下模头之间；下模头具有模腔，模腔包括相互连通的流道区及空置区，第一填充块设置于空置区内，流道区与垫片的出料口相对应。本实用新型还揭示一种涂布设备。将第一填充块设置于模腔的空置区，保持模腔流道区与垫片出料口相对应，当浆料由模腔流向垫片时，由于第一填充块占了部分区域，使得浆料无法流入该区域，进而避免因浆料流入空置区内而出现残留的现象，大大降低了后续的人工清理难度以及工作量，同时，由于浆料的残
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220346338U
(45)授权公告日2024.01.16
(21)申请号202321747320.4
(22)申请日2023.07.03
(73)专利权人浙江锂威能源科技有限公司
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