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本发明涉及光刻机技术领域，特别涉及一种光刻机匹配快速计算方法、匹配系统及计算机设备。本发明提供的方法包括以下步骤：提供掩模图形，于掩模图形上设置若干个关键位置；于样本光刻机上基于样本参数获取掩模图形的关键位置所对应的样本关键尺寸；获取待调参数，基于待调参数和函数关系值获取阿贝光强模型；于待调光刻机的掩模图形上选取关键位置，并基于选取的关键位置和阿贝光强模型获取待调参数所对应的待调关键尺寸；获取待调关键尺寸和样本关键尺寸的匹配结果，并基于匹配结果调整待调参数以使待调关键尺寸和样本关键尺寸相匹配。解
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117406555A
(43)申请公布日2024.01.16
(21)申请号202311138107.8
(22)申请日2023.08.31
(71)申请人深圳晶源信息技术有限公司
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