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本发明公开了一种保持多区板式PECVD电极平行装置,包括:处理室本体和处理室上盖界定薄膜沉积所用的真空环境,真空管路系统藕接到处理室本体,气源输送管路藕接到喷淋电极,输送到喷淋电极的工艺气体均匀分布,喷淋电极藕接到处理室上盖,地电极藕接到处理室本体,喷淋电极和地电极通过外置上悬浮板和下悬浮板形成一对平行电极板,所述上悬浮板和下悬浮板分别通过多个调节螺钉将多个喷淋电极和多个地电极进行平面一致性和相对平行调节。本发明的优点是:保证薄膜沉积的质量,保证多区等离子体的反应区的均匀性、一致性,为高产能、高
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117412460A
(43)申请公布日2024.01.16
(21)申请号202311553491.8
(22)申请日2023.11.21
(71)申请人捷造科技(宁波)有限公司
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