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磁控溅射原理课件

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磁控溅射原理简介

磁控溅射设备与系统

磁控溅射工艺参数

磁控溅射镀膜的质量控制

磁控溅射技术的发展趋势与展望

磁控溅射原理简介

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01

磁控溅射技术是一种物理气相沉积（PVD）技术，利用磁场控制下的高速荷能粒子轰击固体表面，使固体原子或分子从表面射出并沉积在基底表面，形成薄膜。

磁控溅射技术利用磁场与电场的交互作用，产生高速荷能粒子，通过磁场控制荷能粒子的运动轨迹，实现高效率、高沉积速率的薄膜制备。

当外加电场施加到放电空间时，气体被电离产生电子和正离子。在电场的作用下，电