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本实用新型涉及一种用于半导体硅片电镀的密封件,属于半导体ECP工艺密封技术领域。本实用新型提供了一种用于半导体硅片电镀的密封件,包括金属圆环和橡胶圆环,所述橡胶圆环是带有两级台阶的全氟醚橡胶圆环,所述两级台阶包括第一级台阶和第二级台阶,所述第一级台阶设置有环形凹槽,所述金属圆环粘接在所述环形凹槽;所述第二级台阶内侧边缘设置有凸起;所述半导体硅片边缘搭接在所述凸起所形成的橡胶圆环内圈。本实用新型设置特殊的橡胶圆环凸起结构,既能够保证硅片的密封性、减少对电镀均匀性的影响,又减少了导电压边(凸起与硅片
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220378874U
(45)授权公告日2024.01.23
(21)申请号202321908311.9
(22)申请日2023.07.19
(73)专利权人上海芯密科技有限公司
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