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本发明涉及真空腔体加工技术领域,尤其涉及一种金属真空腔体加工清洗处理装置,包括:基座、输送机构、储液箱、支撑板、清洗机构、凸轮导轨和控制器,所述储液箱固定安装于基座的前侧,所述支撑板设置于储液箱的前侧,所述控制器固定安装于支撑板的右侧,输送机构设置于所述基座的顶部,且与所述控制器电性连接。具有步进输送的功能,每次运行使翻转组件移动一个位置,加工过程中可以将金属腔体进行翻转,便于加工,同时便于喷淋液的回收,可以自动调整清理的半径,从而适应不同尺寸的金属腔体,无需人工进行调整,适应自动化生产需求。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117427965A
(43)申请公布日2024.01.23
(21)申请号202311764915.5
(22)申请日2023.12.21
(71)申请人光科真空科技(泰兴)有限公司
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