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本发明涉及掩膜校正领域，公开了一种掩膜图案校正方法、装置、电子设备和可读存储介质，包括：将目标掩膜图案划分为亚分辨率辅助图形目标图案和其他目标图案；在所述其他目标图案固定的条件下，利用预先建立的掩膜工艺校正程序对所述亚分辨率辅助图形目标图案进行校正，得到校正后亚分辨率辅助图形图案；利用预先建立的掩膜偏差规则表对所述其他目标图案进行校正，得到校正后其他图案；合并所述校正后亚分辨率辅助图形图案和所述校正后其他图案，得到校正后掩膜图案。本发明对于亚分辨率辅助图形目标图案，使用掩膜工艺校正程序进行校正，
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117434785A
(43)申请公布日2024.01.23
(21)申请号202311766425.9
(22)申请日2023.12.21
(71)申请人华芯程（杭州）科技有限公司
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