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本发明提供一种匀流组件、进气装置及半导体设备，匀流组件内部具有匀流腔，匀流腔的顶壁上设有沿自身厚度方向贯穿顶壁的多个进气口，匀流腔的底壁上设有沿自身厚度方向贯穿底壁的多个出气口；匀流腔内部设有与多个进气口一一对应设置的多个进气管，以及与多个出气口一一对应设置的多个出气管；进气管的一端与对应的进气口连接，进气管的另一端与匀流腔连通；出气管的一端与对应的出气口连接，出气管的另一端与匀流腔连通；进气管的另一端位于出气管的另一端的下方。采用本发明，工艺气体通过匀流组件的过程中会改变流动方向，以利于使各个
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117438277A
(43)申请公布日2024.01.23
(21)申请号202311746497.7
(22)申请日2023.12.19
(71)申请人北京北方华创微电子装备有限公司
地
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