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一种进气装置及半导体处理设备.pdfVIP

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  • 2024-01-27 发布于四川
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一种进气装置及半导体处理设备.pdf

    本申请公开了一种进气装置及半导体处理设备，进气装置包括：转接结构，以及沿第一方向排列并分别设置于转接结构的相对两侧的第一匀气结构和第二匀气结构；转接结构内设有沿第二方向延伸并用于与半导体处理设备连通的传输通道；第一匀气结构设有沿第三方向排列并与传输通道连通的多个第一进气孔；第一进气孔包括第一进气口以及第一出气口，第一进气孔由第一进气口至第一出气口向靠近工艺腔室的方向倾斜；第二匀气结构设有沿第三方向排列并与传输通道连通的多个第二进气孔；第二进气孔包括第二进气口，以及第二出气口，第二进气孔由第二进气

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117448954A

    (43)申请公布日2024.01.26

    (21)申请号202311598862.4

    (22)申请日2023.11.27

    (71)申请人北京北方华创微电子装备有限公司

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