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本发明涉及一种清除low‑e玻璃镀层的清除剂及清除方法。该清除剂包括清除液A和清除液B,其中:清除液A包括1~5M的无机酸、5%~20%的无机助磨试剂、1%~5%的pH缓冲剂、1%~5%的分散剂、1%~5%的螯合剂、1%~5%的表面活性剂和1%~5%的催化剂;清除液B包括3~10M的无机碱、5%~20%的无机助磨试剂、1%~5%的pH缓冲剂、1%~5%的分散剂、1%~5%的螯合剂、1%~5%表面活性剂和1%~5%的催化剂。本发明所提供的清除剂具有配方稳定、去除力强、不易挥发、不易分解、持久力强等
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117448089A
(43)申请公布日2024.01.26
(21)申请号202311405411.4C11D3/04(2006.01)
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