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本发明提供了一种在锗薄膜上直接外延生长钛酸钡薄膜的方法,属于钙钛矿薄膜材料制备技术领域。本发明先在衬底或缓冲层表面外延生长一层锗薄膜,然后使用射频磁控溅射的方法直接在锗薄膜上生长钛酸钡薄膜。本发明加入了一种可调节晶格常数的锗薄膜,其可以通过与不同衬底或缓冲层间的晶格失配,人为的在锗薄膜中引入应力,从而改变锗薄膜的晶格常数;这种可调晶格常数的锗薄膜又可以改变其与钛酸钡薄膜之间晶格失配的程度,从而调整钛酸钡薄膜内部所受应力大小,这不仅可以用于控制钛酸钡薄膜晶体的生长取向,也可以提高钛酸钡薄膜的结晶质
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117448956A
(43)申请公布日2024.01.26
(21)申请号202311342616.2C30B29/08(2006.01)
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