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本发明公开了牙釉质缺陷模型的构建及其相关应用，涉及生物技术领域。本发明通过条件性敲除牙上皮组织的Mettl3基因，构建了牙釉质发育缺陷模型，利用体式显微镜、microCT分析、扫描电镜分析、显微硬度测试观察构建模型地下颌切牙牙釉质形成情况，结果表明，模型的切牙釉质出现变黄，变短，变薄，密度下降，釉柱结构紊乱，硬度下降等牙釉质发育缺陷表型。说明本申请准确有效地构建了牙釉质发育缺陷模型，为牙釉质发育缺陷预防策略的研究开发和临床应用提供了途径。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117442756A
(43)申请公布日2024.01.26
(21)申请号202311413502.2
(22)申请日2023.10.27
(71)申请人四川大学
地址610000
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