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- 2024-01-27 发布于四川
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本发明属于硅片清洗技术领域，具体的说是一种硅片清洗干燥设备及清洗干燥方法，包括工作台，所述工作台的顶面设置有支撑架；所述支撑架的顶面滑动连接有滑块；所述滑块的侧面啮合贯通设置有丝杠；所述滑块的顶面设置有第一伸缩杆，所述第一伸缩杆输出端底端贯通到滑块的下方，且底端设置有吸附硅片的吸盘组件；本发明所述的一种硅片清洗干燥设备及清洗干燥方法，通过在放置板上设置支撑辊，通过吸盘组件将硅片转移到放置板顶端，通过支撑辊撑起，之后浸泡在清洗溶剂内，同时推板间歇性的推动硅片移动，硅片与支撑辊的接触位置不断改变，使
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117443832A
(43)申请公布日2024.01.26
(21)申请号202311601508.2
(22)申请日2023.11.24
(71)申请人池州首开新材料有限公司
地址2
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