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硅基硅碳氧薄膜发光材料的制备与特性研究的开题报告

一、研究背景和意义

硅基薄膜发光材料是一种新兴的光电子材料，具有多种良好的物理和化学特性。近年来，随着纳米材料的研究和应用不断深入，硅基薄膜发光材料也得到了广泛关注。其中，硅基硅碳氧薄膜发光材料不仅具有高效、均匀、稳定的发光性能，还具有较高的化学稳定性和机械强度，具有广泛的应用前景。因此，对硅基硅碳氧薄膜发光材料的制备和特性研究具有重要意义。

二、研究目的和内容

本课题旨在通过化学气相沉积方法制备硅基硅碳氧薄膜发光材料，并对其发光性能进行系统的研究和分析。具体研究内容包括以下几个方面：

1、液晶聚合物外模板的制备及表面改性

2、纳米复合离子液体电解液的制备及其电性能表征

3、有序微孔碳的制备及其物理化学性能表征

4、硅基硅碳氧薄膜材料的制备方法和工艺流程设计及优化

5、硅基硅碳氧薄膜材料的结构、形貌和发光性能表征

三、研究方法和技术路线

本课题主要采用化学气相沉积（CVD）方法制备硅基硅碳氧薄膜材料，并通过扫描电子显微镜（SEM）、X射线衍射（XRD）、荧光光谱仪等手段对样品结构和发光性能进行表征和分析。具体技术路线如下：

1、制备液晶聚合物外模板，采用溶液浸涂法改性表面。

2、合成纳米复合离子液体电解液，采用两步法制备。

3、制备有序微孔碳，采用模板法制备。

4、制备硅基硅碳氧薄膜，采用CVD方法，调节反应条件参数，得到具有优异性能的硅基硅碳氧薄膜材料。

5、对硅基硅碳氧薄膜材料进行表征和分析，包括结构分析、形貌分析和发光性能分析。

四、预期研究结果

经过实验研究，预期能够获得优异性能的硅基硅碳氧薄膜材料，并对其结构、形貌和发光性能进行了系统的表征和分析，揭示其发光机理和性能优化的关键因素。为硅基薄膜发光材料的制备和应用提供了科学依据和技术支撑。