纳米压印技术.pptx

微米纳米技术纳米压印技术2015.05MicroNanoSystemResearchCenter普林斯顿大学电机系华裔教授,1978年从中国科技大学物理系毕业；1986年获麻省理工学院博士后；先后在斯坦福大学及明尼苏达大学任教；1997年应聘至普林斯顿大学主持“纳米结构实验室〞。StephenY.Chou〔://princeton.edu/~chouweb/〕2007年中选为美国国家工程院院士，被称为改革开放后中国大陆高校毕业生获取美国国家工程院院士的第一人。主要内容1.纳米压印技术简介1.1压印技术1.2纳米压印技术1.3纳米压印关键工艺步骤2.纳米压印工艺2.1热压印技术2.2紫外光固化压印〔步进-闪光工艺〕2.3软模板压印技术〔SCIL〕2.4逆压印技术2.5滚筒压印技术3.纳米压印技术应用领域及前景1.纳米压印技术简介1.1压印技术说到压印技术，其实并不神秘，中国古代四大创造之一的活字印刷术就是最初压印技术的原型。通俗的说，压印就是把一个刻有凸凹图案的印章盖在橡皮泥上，然后在其上面留下与章的图形相反的图案。1.2纳米压印技术普林士顿大学：StephenY.Chou教授，将一具有纳米图来的模版以机械力(高温、高压)在涂有高分子材料的硅基板上等比例压印复制纳米图案.压印示意图优点：其加工分辨力只与模幅员案的尺寸有关，而不受光学光刻的最短曝光波长的物理限制。日前，NIL技术已经可以制作线宽在5nm以下的图案。由于省去了光学光刻掩模版和使用光学成像设务的本钱。因此NIL技术具有低成木、高产出的经济优势。广泛应用在纳米电子元件、生物或化学的硅片实验室、微流道装置，超高存储密度磁盘、微光学元件等领域;1.3关键工艺步骤：模版的制备：压模的制作通常用高分辨电子束刻印术(EBL)制备，压模通常用Si,SiO2.氮化硅、金刚石等材料制备。这些材料具有:高硬度、大压缩强度、大抗拉强可以减少压模的变形和磨损;高热导率和低热膨胀系数，使得在加热过程中压模的热变形很小。热压印模版的制备电沉积Ni模版模板材料的选择：选择模板材料的关键在于它们的机械特性。包括硬度，热膨胀系数和导热性。通常要求模板材料硬度和拉伸强度高，热膨胀系数小，抗腐蚀性好，确保模版耐磨，变形小，从而保证其压印精度和使用寿命。由于不同压印工艺对模板材料的要求不同，为了寻找使用周期更长的模板材料作为大规模生产，研究人员研究更具灵活性和适应性的材料作为模板材料。一般通过实验来测试这些通过纳米加工技术得到的模板的耐用性。1〕硬度:分别进行不同的硬度试验测试，包括硬度划痕试验和压痕硬度试验.在硬度划痕试验中，测试莫式硬度。在压痕硬度试验中，测试维氏硬度和努普硬度。2)导热性:必须考虑到模板和基片这两种材料导热性的差异。在降温过程中，两者导热性过大的差异，会使图形产生扭曲变形。通常的选用原那么是，导热性越强越好，可以缩短整个加工周期，这有利于产量的提高.模板材料随压印工艺而不同:1〕软压印术先用硅作为母板，然后采用聚二甲基硅氧烷〔PDMS)浇铸母板，最后得到PDMS模板(或模具);2〕热压印一般采用镍(Ni)、铬(Cr)或碳化硅(厚度5.5mm)作为模板;2.纳米压印技术原理和分类近十年间,各种创新的NIL工艺的研究陆续开展，其实验结果越来越令人满意，目前，大概归纳出四种代表技术:热压印光刻技术、紫外硬化压印光刻技术、软压印、激光辅助直接光刻技术。2.1热压印(HE-NIL)热压印热压工艺是在微纳米尺度获得并行复制结构的一种本钱低而速度快的方法，仅需一个模具，完全相同的结构可以按需复制到大的外表上。根本概念：利用电子束刻印技术或其他先进技术，把坚硬的压模毛坯加工成一个压模:然后在用来绘制纳米图案的基片上旋涂一层聚合物薄膜，将其放人压印机加热并且把压模压在基片上的聚合物薄膜上，再把温度降低到聚合物凝固点附近并且把压模与聚合物层相别离，就在基片上做出了凸起的聚合物图案(还要稍作腐蚀除去凹处残留的聚合物)热压印示意图热压印法的工艺过程分三步:压模制备、压印过程、图形转移。纳米压印与图形转移技术热压印工艺流程：1.首先，利用电子束直写技术(EBDW)制作一片具有纳米图案的Si或SiO2模版，并且准备一片均匀涂布热朔性高分子光刻胶(通常以PMMA为主要材料)的硅基板；模版的制备2.将硅基板上的光刻胶加热到玻璃转换温度(GlassTransferTemperature)以上，利用机械力将模版压入高温软化的光刻胶层内，并且维持高温、高压一段时，使热塑性高分子光刻胶填充到模版的纳米结构内;热压印流程热压印温度与时