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本发明公开了一种珍珠釉釉面加工设备及其方法,具体涉及珍珠釉釉面加工技术领域,主要包括加工套接平板,在加工套接平板的上方安装有抛光带,抛光带的内壁一侧安装有均力抛光机构;且均力抛光机构包括安装在抛光带内壁一侧的挤压轴辊,挤压轴辊的内壁转动连接有支撑轴杆。本发明采用均力抛光机构使联动压力传感器的压力数值与压力传感器的压力数值不相同时,停止第一减速驱动电机驱动,等到联动压力传感器的压力数值与压力传感器的压力数值相同才会继续移动抛光珍珠釉釉面板表面,挤压轴辊和两个挤压轴辊带动抛光带均匀受力接触珍珠釉釉面
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117464509A
(43)申请公布日2024.01.30
(21)申请号202311455111.7
(22)申请日2023.11.03
(71)申请人潮州市泳升陶瓷制
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