粉体高氯酸铵真空上料设备.pdfVIP

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  • 2024-01-31 发布于四川
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本发明涉及粉体高氯酸铵真空上料设备。涉及到真空上料设备技术领域,包括:真空上料器、输送管路、法兰组件和静电导出装置,静电导出装置包括第一法兰、第二法兰和密封垫片;静电导出装置包括第一导电体,第一导电体包括圆环形本体,圆环形本体安装于所述第一法兰与第二法兰之间,圆环形本体的外圆表面连接有用于接地的导线,圆环形本体的内圆表面设有凸起,凸起向圆环形本体的圆心延伸。第一管道中的高氯酸铵粉体流经圆环形本体时,凸起将高氯酸铵粉体内部的静电传导到凸起上,该静电由导线导出。

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117465990A

(43)申请公布日2024.01.30

(21)申请号202311531451.3

(22)申请日2023.11.17

(71)申请人大连高佳化工有限公司

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