一种研磨液添加结构及半导体硅片加工用研磨装置.pdfVIP

一种研磨液添加结构及半导体硅片加工用研磨装置.pdf

  1. 1、本文档内容版权归属内容提供方,所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议,可选择认领,认领后既往收益都归您。。
  2. 2、本文档由用户上传,本站不保证质量和数量令人满意,可能有诸多瑕疵,付费之前,请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形,可联系本站下载客服投诉处理。
  3. 3、文档侵权举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
  4. 4、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
  5. 5、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们
  6. 6、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
  7. 7、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本实用新型涉及半导体硅片加工用研磨装置技术领域,具体为一种研磨液添加结构及半导体硅片加工用研磨装置,包括:添加管,所述添加管的顶端设置有中转罐,中转罐的顶端开设有搅拌轴孔,搅拌轴孔中旋转连接有搅拌轴,搅拌轴的侧面固定设置有纳米滤网,搅拌轴的侧面旋转设置有辊压组件;有益效果为:通过在输料管和添加管之间设置中转罐,将研磨液先添加进中转罐,在中转罐中设置搅拌机构和辊压组件,然后对中转罐中的研磨液进行搅拌的同时在纳米滤网的表面对研磨液进行辊压,使聚集成大颗粒的粒子被压散后再从添加管添加到研磨垫上,解决了

(19)国家知识产权局

(12)实用新型专利

(10)授权公告号CN220408332U

(45)授权公告日2024.01.30

(21)申请号202321615200.9

(22)申请日2023.06.21

(73)专利权人江苏芯诺半导体科技有限公司

地址

文档评论(0)

知识产权出版社 + 关注
官方认证
文档贡献者

知识产权出版社有限责任公司(原名专利文献出版社)成立于1980年8月,由国家知识产权局主管、主办。长期以来, 知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作, 经过多年来的积累,已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。

版权声明书
用户编号:5333241143000144
认证主体北京中献电子技术开发有限公司
IP属地四川
统一社会信用代码/组织机构代码
91110108102011667U

1亿VIP精品文档

相关文档