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本发明公开了一种真空雾化制药装置，包括壳体，所述壳体上部侧端设置有进料管，所述进料管末端设置有喷射单元，所述壳体内部下侧设置有干燥单元，还包括：清洁单元，其包括清洁板，所述清洁板布置于所述喷射单元上方，所述清洁板覆盖所述壳体内部的径向界面，所述清洁板上设置有诸多粘附间隙；所述清洁板在不合格颗粒上浮过程中予以吸附，所述清洁板间歇性的运动以将不合格颗粒震落。本发明通过设有的清洁板在壳体内发生移动和旋转，从而使得所述清洁板将雾化后干燥粘结在壳体内顶壁上的颗粒进行清理，避免物料浪费，且此处的清理时，达到
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117463244A
(43)申请公布日2024.01.30
(21)申请号202311450561.7B01D1/30(2006.01)
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