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2024-01-31 发布于四川
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本发明涉及真空镀膜技术领域，公开一种镀膜系统。其中镀膜系统包括镀膜腔和冷却装置，镀膜腔内设置有具有多个承载位的膜料承载件，镀膜腔内设置有用于镀膜的镀膜位，承载位能依次置于镀膜位；冷却装置设置于镀膜腔，冷却装置包括用于冷却置于镀膜位的承载位的镀膜位冷却机构，以及用于冷却位于非镀膜位的承载位的非镀膜位冷却机构。本发明将膜料承载件上设置有多个承载位，用于承载更多的膜料。通过设置冷却装置，用于对置于镀膜腔的膜料承载件进行冷却，镀膜位冷却机构对置于镀膜位的承载位进行冷却，非镀膜位冷却机构对镀膜完成的承载位

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117467943A

(43)申请公布日2024.01.30

(21)申请号202210873364.5

(22)申请日2022.07.21

(71)申请人光驰科技（上海）有限公司

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