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TSV三维系统级封装中的RDL工艺及设计基础研究的开题报告

一、研究背景

随着无线通信技术的迅猛发展，系统级集成芯片的需求日益增加。而在系统级集成芯片设计中，RDL（RedistributionLayer）工艺是关键性步骤之一。RDL工艺是将原始芯片上的信号进行扩展、重新分配并连接到BGA封装上的一种技术。由于RDL工艺存在设计复杂度高、制造工序多、加工难度大等困难，在集成芯片的生产中极具挑战性。因此，对于RDL工艺及其设计基础的研究具有重要的实际意义。

二、研究目的

本项目拟开展TSV三维系统级封装中RDL工艺及设计基础的研究，旨在探索RDL工艺在集成芯片设计中的应用及其设计基础，提高RDL工艺的制造难度和工程上的可行性，从而为无线通信等领域的集成芯片设计提供理论和技术支撑。

三、研究内容

（1）RDL工艺的制造工序及其制造技术

通过研究RDL工艺的制造工序和制造技术，了解RDL工艺的制造难度和制造过程中的困难，从而为后续的研究提供必要的技术支撑。

（2）RDL工艺的设计基础

探究RDL工艺的设计基础，包括传输线的走线、电容的布局设计、基板类型的选择等。通过系统性的分析和设计，提高RDL工艺的设计效率和可行性。

（3）TSV三维系统级封装中RDL工艺的应用实践

将RDL工艺应用于TSV三维系统级封装中，通过实践验证RDL工艺的可行性。

四、研究方法

（1）文献调研法

通过文献调研法，收集和分析RDL工艺及其相关技术、集成芯片的制造工序和技术等方面的文献，掌握最新的研究进展和技术要求。

（2）仿真设计法

通过仿真设计法，对RDL工艺进行系统的理论分析和设计，在不同的应用场景下，对RDL工艺进行验证和改进。

（3）实际制造法

通过实际制造法，对TSV三维系统级封装中的RDL工艺进行制造和实际应用，从而验证RDL工艺的可行性。

五、预期成果

通过对TSV三维系统级封装中RDL工艺及其设计基础的研究，预期达到以下成果：

（1）掌握RDL工艺的制造工序和技术，了解制造过程中的难点。

（2）分析RDL工艺的设计基础，提高RDL工艺的设计效率和可行性。

（3）应用RDL工艺于TSV三维系统级封装中进行实践验证，提高RDL工艺在集成芯片设计中的应用水平。

六、研究进度安排

第一年：文献调研、RDL制造工序分析、RDL设计基础研究。

第二年：RDL仿真设计、验证及改进、实际制造及应用。

第三年：总结归纳研究成果，撰写论文,完成论文答辩。

七、参考文献

[1]HuangC,TuY,ChenJ.AComparisonofCopperandAluminumRedistributionLayerAppliedtoaTSV-Less3DPackage[J].IEEETransactionsonComponents,PackagingandManufacturingTechnology,2020,10(12):2067-2075.

[2]LiM,HongY,ZhouX,etal.AReviewoftheRedistributedLayerDesignBasedonSiliconWaferstoOptimizetheThree-DimensionalIntegrationofMEMSDevices[J].Sensors,2021,21(4):1376.

[3]WangC,HsuC,LinC,etal.Micro-Channel-BasedThrough-Silicon-Via(TSV)DesignwithMultilayeredRedistributedLayer(RDL)forThree-DimensionalIntegratedCircuit(3D-IC)[J].Crystals,2018,8(5):216.

[4]ChiangH,WangY,ChenW.DesignandAnalysisofRedistributedLayer(RDL)towardTSV-less3DICPackaging[J].Coatings,2020,10(9):822.