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提供了使用激光辐射来清洁表面的方法和系统。在一个示例中,使用激光辐射来清洁表面的系统包括:激光源,所述激光源被配置为产生激光辐射,所述激光源被配置为以清洁模式发射激光辐射,所述清洁模式被表征为调制连续波(CW)模式,所述调制连续波模式具有小于100%的占空比、至少10千赫兹(kHz)的脉冲重复频率、以及在包括端值在内的1微秒(μs)至10(毫秒)ms的范围内的FWHM脉冲持续时间;壳体,所述壳体被配置作为将所述激光辐射引导至所述表面的手持式设备;和光纤,所述光纤将所述手持式设备联接到所述激光源。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117500614A
(43)申请公布日2024.02.02
(21)申请号202280042995.0谢尔盖·诺维科夫
(22)申请日2022.06.20
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