原创力文档- 1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
- 2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本发明提供晶圆双面抛光中轨迹运动监测控制方法，包括以下步骤：步骤一：将待抛光晶圆放置于抛光设备中，抛光设备包括下打磨盘、上打磨盘、载盘，载盘位于下打磨盘上，载盘上开设有中心孔、放置孔，放置孔内嵌有晶圆。本发明在对晶圆抛光过程中，工业相机一依次对多个载盘的中心孔位置图像信息摄取，并与储存的预摄取载盘的中心孔位置图像信息比对，当抛光过程中，工业相机一摄取载盘的中心孔位置图像信息与储存的图像信息不一致时，控制抛光设备停止工作，实现对晶圆抛光过程中轨迹运动监测控制效果，有效的避免晶圆抛光过程中轨迹发生变
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117484371A
(43)申请公布日2024.02.02
(21)申请号202311371673.3
(22)申请日2023.10.20
(71)申请人南京孚克讯新材料
文档评论（0）