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基板处理装置、半导体器件的制造方法以及记录介质.pdfVIP

基板处理装置、半导体器件的制造方法以及记录介质.pdf

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    本发明提供一种能够抑制基板表面的氧化和颗粒的附着来提高生产能力的技术。基板处理装置具备：相对于搬入来的基板分别执行预先设定的处理的多个处理室；与所述多个处理室相邻且保持在减压状态的搬运室；以及待机室，其构成为能够以减压状态与所述搬运室连通，具有能够对所述多个处理室中的第一处理室中的处理结束之后的多个基板进行支承的多个支承部，并向利用所述多个支承部分别支承的多个基板中的每规定张数的基板供给非活性气体。

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117497445A

    (43)申请公布日2024.02.02

    (21)申请号202310313362.5

    (22)申请日2023.03.28

    (30)优先权数据

    2022-123485202

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