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本发明属于真空镀膜技术领域,旨在提供一种真空镀膜设备,包括架台,架台的顶部自左向右依次固定放置有过渡腔和四个镀膜腔,过渡腔与四个镀膜腔均相连通,过渡腔与最左侧的镀膜腔之间设有插板阀;过渡腔的腔体内设有工件移栽机构,四个镀膜腔的内部上端设有移动小车,每两个相邻的镀膜腔的连接处的下方均设有两个溅射源机构。本发明具有多个溅射源依次对工件进行镀膜、节约时间、方便拿取工件、方便根据工件调节溅射源于工件之间距离的优点。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117512533A
(43)申请公布日2024.02.06
(21)申请号202410014466.0
(22)申请日2024.01.05
(71)申请人无锡嘉森光学科技有限公司
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