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基于Seq2Seq模型的微纳米材料电沉积制备形状预测方法.pdfVIP

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  • 2024-02-07 发布于四川
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基于Seq2Seq模型的微纳米材料电沉积制备形状预测方法.pdf

    本发明公开了一种基于Seq2Seq模型的微纳米材料电沉积制备形状预测方法。为了克服直接电沉积法人工设计合成多级结构微纳米材料时很难通过电沉积参数准确预测制备的材料形状，以往的研究都是基于经验法则制备，难以高效制备的问题；本发明应用Seq2Seq模型指导多级结构微纳米材料的电沉积制备，根据电沉积电位变化预测生成的材料形状，依靠数据驱动，解决电沉积参数与制备的结构间高维特征难以解析的问题，并且根据材料形状描述的二义性，改进BLEU评估指标，通过电沉积参数准确预测制备的材料形状。

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117520967A

    (43)申请公布日2024.02.06

    (21)申请号202311511640.4G06N3/047(2023.01)

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