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本发明公开了曝光装置和物品制造方法。提供了一种曝光基板的曝光装置。该装置包括被配置成将掩模的图案投影到基板上的投影光学系统、被配置成调整投影光学系统的成像特性的调整单元以及被配置成使用预测公式预测由投影光学系统吸收曝光能量引起的成像特性的波动，基于预测的结果控制调整单元并曝光基板的控制单元。控制单元应用一种模式，在该模式下，在用于顺序地曝光多个基板的作业中，在曝光每个基板之前测量成像特性，并且在完成作业之后，基于各个测量结果来更新预测公式中的预测系数。在该模式下，不仅在作业中设定的曝光视角内而且
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN112015055A
(43)申请公布日2020.12.01
(21)申请号202010472360.7
(22)申请日2020.05.29
(30)优先权数据
2019-1031
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