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2024-02-07 发布于四川
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本申请公开了一种线性抗光背投光学成像膜，包括基材层、第一附着力促进底涂层、第二附着力促进底涂层、线性光栅层和成像层，其中，基材层一侧面设有第一附着力促进底涂层，另一侧面设有第二附着力促进底涂层，线性光栅层设置在第一附着力促进底涂层上，成像层设置在第二附着力促进底涂层上；其中，基材层，用于通过第一附着力促进底涂层和第二附着力促进底涂层以对线性光栅层和成像层进行一体化承载，且可透光；成像层，用于双面成像；线性光栅层，用于对投影机的光源进行定向折射，以抗光。由此，不仅能够双面成像，而且能够对投影机的光

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117518699A

(43)申请公布日2024.02.06

(21)申请号202311670585.3

(22)申请日2023.12.07

(71)申请人中科宝溢视觉科技（江苏）有限公司

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