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两面曝光装置及两面曝光方法.pdfVIP

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  • 2024-02-07 发布于四川
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两面曝光装置及两面曝光方法.pdf

    本发明的目的是在经由基板的校准用开口将掩模的校准标记用照相机摄影时，解决掩模的校准标记的遮挡的问题。通过曝光单元(2)经由配置在夹着被输送系统(1)间歇性地进给的基板(W)的位置的一对第一第二掩模(3、4)将光向基板(W)照射而曝光。在曝光之前，根据来自对第一掩模(3)的校准标记(31)、第二掩模(4)的校准标记(41)及基板(W)的校准用开口(Wm)进行摄影的照相机(8)的摄影数据，校准机构进行校准。在没有经由校准用开口(Wm)拍摄到掩模标记(31、41)而被遮挡的情况下，将前次曝光时的校准完

    (19)中华人民共和国国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN109725502A

    (43)申请公布日

    2019.05.07

    (21)申请号20181

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