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本申请公开了一种可覆胶刚性印章的制作方法，包括如下步骤：S1，准备图形化衬底；S2，均匀沉积一层二氧化硅；S3，经过光刻和蚀刻，得到图案化的二氧化硅保护层；S4，再对图形化衬底材料进行蚀刻，得到图案化印章凸点；S5，进一步蚀刻清洗，初步得到刚性印章；S6，继续均匀沉积一层二氧化硅；S7，经过光刻和蚀刻，得到图案化的二氧化硅保护层；S8，得到新的图案化印章凸点；S9，最后经过蚀刻清洗，得到可覆胶的刚性印章；本申请可以显著提升印章的结构刚性，解决了传统PDMS印章所遭受的机械损伤和形变等问题，使得生
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117525223A
(43)申请公布日2024.02.06
(21)申请号202311634037.5H01L21/306(2006.01)
(22)申请日2023.12
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