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本发明公开了一种二维超薄六方氮化硼纳米片的制备方法，包括如下步骤：将基底置于反应炉腔体一端、硼氮前驱体置于反应炉腔体高温区，向腔体内部通入还原性载气置换出内部的空气，将进气端和出气端的阀门关闭；将反应炉升温至气相沉积温度，将基底推拉置于硼氮前驱体上方，形成微反应空间，保温沉积生长一段时间；生长结束，将基底和硼氮前驱体推至反应炉腔体一端，待腔体温度降至室温后，将沉积生长有二维超薄六方氮化硼纳米片的基底取出。本发明方法制备得到的二维超薄六方氮化硼纳米片是高质量晶体，具有优异的环境、化学稳定性，为其在
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117509566A
(43)申请公布日2024.02.06
(21)申请号202311544643.8
(22)申请日2023.11.20
(71)申请人常州工学院
地址213032
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