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本公开提供了一种半导体热处理设备及半导体的热处理方法,涉及半导体热处理技术领域。该半导体热处理设备包括反应腔、承载台、电源装置、碳布体和驱动装置。承载台位于反应腔内,承载台用于放置待处理半导体;电源装置用于提供电流;碳布体与电源装置电连接,且碳布体向待处理半导体提供热冲击,以进行热处理;驱动装置与碳布体连接,驱动装置被配置成使碳布体与待处理半导体接触或分离。如此,该半导体热处理设备利用电源装置提供的热冲击,对待处理半导体进行热处理,不仅工艺简单,还能降低半导体的接触电阻。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117542764A
(43)申请公布日2024.02.09
(21)申请号202311824640.X
(22)申请日2023.12.28
(71)申请人长鑫集电(北京)
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