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提供一种等离子处理装置,控制微波电力的第一输出期间的长度和所述第二输出期间的长度,以使得成为所期望的晶片ER分布。在利用通过脉冲调制了的高频电力生成的等离子进行等离子处理的等离子处理装置中,特征在于,脉冲调制的一周期具有:微波输出的第一输出的期间;微波输出比第一输出小的有限值的第二输出的期间;和微波输出被设为关断的关断期间,在第一输出的期间以及第二输出的期间中,施加高频偏压,第一输出是蚀刻速率分布成为凹分布的输出,第二输出是蚀刻速率分布成为凸分布的输出,所述等离子处理装置具备:控制装置,其控制生
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117546275A
(43)申请公布日2024.02.09
(21)申请号202280008553.4(51)Int.Cl.
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