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本发明提供了一种热场结构、碳化硅生长装置和碳化硅的生长方法,所述热场结构包括侧保温部件、顶部保温部件、底部保温部件和感应加热线圈;所述侧保温部件包括由内至外依次嵌套的内保温层和外保温层,内保温层和外保温层均为两端开口的中空筒状结构,内保温层的中空腔内设置有坩埚;所述内保温层和外保温层之间具有间隙,所述间隙内设置有可移动的侧感应件;所述外保温层的一端开口与顶部保温部件的底面边缘相接,另一端开口与底部保温部件的顶面边缘相接。本发明中的侧感应件可以改变坩埚处的感应磁场,起到减小坩埚径向温度梯度的作用,
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117535787A
(43)申请公布日2024.02.09
(21)申请号202311511080.2
(22)申请日2023.11.14
(71)申请人江苏超芯星半导体有限公司
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