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                本发明涉及半导体封装技术领域,公开了一种半导体封装结构及其制造方法。公开的半导体封装结构,包括封装结构主体、补充金属互连层和镍钯金镀层;封装结构主体具有连通的第二开口和第三开口,第二开口的口径大于第三开口的口径,第二绝缘介质层设置于第一绝缘介质层远离芯片的一侧,主体金属互连的一部分填充于第二开口内;补充金属互连层和镍钯金镀层相互连接且位于第三开口内。公开的制造方法,包括:在第三开口内形成初级金属层;对初级金属层进行微蚀得到补充金属互连层;在补充金属互连层上进行获得镍钯金镀层的操作。本发明提供的结
                    (19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117542817A
(43)申请公布日2024.02.09
(21)申请号202410015791.9
(22)申请日2024.01.05
(71)申请人江苏中科智芯集成
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