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2024-02-10 发布于四川
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本发明提供抑制异常放电的等离子体处理装置和静电吸盘。等离子体处理装置包括基片支承部，其包括：具有基片支承面和背面的陶瓷部件；在陶瓷部件内配置在基片支承面的下方的吸盘电极层及其下方的偏置电极层；气体扩散通路，其在偏置电极层的下方沿水平方向延伸，具有主路径和多个分支路径；从背面沿纵向延伸至气体扩散通路的气体入口；以及多个气体出口，其各自具有：从多个分支路径之一沿水平方向延伸的中空部分；和从中空部分沿纵向延伸至基片支承面并被陶瓷多孔材料填满的多孔部分，等离子体处理装置还包括：向气体入口供给传热气体的传

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117542717A

(43)申请公布日2024.02.09

(21)申请号202310940795.3

(22)申请日2023.07.28

(30)优先权数据

2022-126266202

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