一种利用激光修补光掩模板缺陷的方法.pdfVIP

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2024-02-14 发布于四川
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一种利用激光修补光掩模板缺陷的方法.pdf

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本发明涉及一种利用激光修补光掩模板缺陷的方法，包括：检验机台检测出与图形区黏连的残留物，获取检验机台坐标系的原点和残留物的中心点坐标作为偏离曝光数据，然后使用偏离曝光数据建立偏离曝光矩阵，得到偏离曝光文件；在光掩模板的表面涂布光刻胶；根据偏离曝光文件对偏离曝光矩阵处的光刻胶进行偏离曝光。该方法仅需要对偏离曝光矩阵区域进行曝光，并且修补过程中不会造成残留物喷溅，在修补残留物厚度较薄的区域时不会造成石英基板的损伤，而且仅进行局部检验，无需检验整片光掩模板，缩短了时间。

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117555203A

(43)申请公布日2024.02.13

(21)申请号202311646365.7

(22)申请日2023.12.04

(71)申请人兴华芯（绍兴）半导体科技有限公司

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