精密掩模版及其制作方法.pdfVIP

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  • 2024-02-14 发布于四川
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本申请提供一种精密掩模版及其制作方法,涉及显示技术领域,用于解决张网时精密掩模版易出现褶皱的技术问题。该精密掩模版具有相连接的边框区和蒸镀区;位于蒸镀区的精密掩模版具有呈阵列排布的多个蒸镀开口;任一蒸镀开口和与其相邻的所有的蒸镀开口中,任意相邻的两个蒸镀开口的内侧面相交的区域形成第一阻隔部,第一阻隔部的厚度小于位于边框区的精密掩模版的厚度;任意相邻的两个蒸镀开口的内侧面不相交的区域形成第二阻隔部,第二阻隔部的厚度小于位于边框区的精密掩模版的厚度。该精密掩模版,能够减小或消除第一阻隔部和第二阻隔部

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN115449747A

(43)申请公布日2022.12.09

(21)申请号202211278083.1

(22)申请日2022.10.19

(71)申请人云谷(固安)科技有限公司

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