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2024-02-21 发布于四川
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本发明涉及一种晶圆片曝光系统及方法，包括：光源发射装置，以提供照明光源；第一光罩，设置在所述光源发射装置下方，以接收光源；透镜装置，设置在所述第一光罩下方，以接收辐射后的光源，并将其投影至所述晶圆上；误差晶圆片组，包括多个误差晶圆片，接收所述透镜装置的投影，以测量所述透镜装置所产生的误差；通过曝光误差晶圆片，测量并计算透镜装置达到热稳定过程中的多个误差参数，并根据多个误差参数计算透镜补偿值，其用于制作第二光罩，以替换第一光罩，从而抵消透镜热效应带来的套刻误差，提高生产精度。

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117572719A

(43)申请公布日2024.02.20

(21)申请号202311831309.0

(22)申请日2023.12.27

(71)申请人物元半导体技术（青岛）有限公司

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