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本申请提供了一种覆铜陶瓷基板的制备系统及其控制方法，涉及镀膜技术领域。覆铜陶瓷基板的制备系统包括铜靶材和陶瓷基板，其中，铜靶材用于通过磁控溅射法在陶瓷基板的表面形成铜膜；制备系统还包括：第一冷却装置，用于对铜靶材进行冷却；第二冷却装置，用于对陶瓷基板进行冷却；控制模块，用于基于铜靶材所溅射的铜原子的溅射速率，并根据动态调温模型，对第一冷却装置进行控制以实现对铜靶材温度的调节；控制模块，还用于对第二冷却装置进行控制，以使得陶瓷基板的温度处于预设温度区间。通过对铜靶材温度进行动态控制，使得铜原子的溅
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117568773A
(43)申请公布日2024.02.20
(21)申请号202311806031.1
(22)申请日2023.12.26
(71)申请人东莞市湃泊科技有
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