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等离子处理方法.pdfVIP

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  • 2024-02-24 发布于四川
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等离子处理方法.pdf

    提供如下的等离子处理方法的技术：其是简单的工艺，且在抑制图案表面的杂质污染的同时实施侧壁保护膜的形成和除去工序，能抑制弯曲形成等而将钌图案加工成所期望的截面形状。在通过等离子对钌膜进行蚀刻的等离子处理方法中，具有：第一工序，通过使用氧气与卤素气体的混合气体生成的等离子来对所述钌膜进行蚀刻；第二工序，在所述第一工序后，利用通过使用卤素气体生成的等离子而生成的自由基来在所蚀刻的钌膜的侧壁形成钌化合物；第三工序，在所述第二工序后，通过使用氧气与卤素气体的混合气体生成的等离子来对钌膜进行蚀刻；和第四工序

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117597766A

    (43)申请公布日2024.02.23

    (21)申请号202280008134.0(51)Int.Cl.

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