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根据本说明书的一实施例的空白掩模，其包括透光基板以及配置在所述透光基板上的多层膜。多层膜包括：遮光膜，配置在所述透光基板上；以及相移膜，配置在所述透光基板和所述遮光膜之间，并包括面向所述遮光膜的上表面和连接到所述上表面的侧表面。遮光膜被配置成覆盖所述相移膜的上表面和侧表面。当从多层膜的上表面观察时，所述多层膜包括中央部和围绕所述中央部的外周部。外周部具有弯曲的上表面。在这种情况下，可以实质上抑制相移膜因清洗液等引起的损伤，并且可以有效地降低源自相移膜和遮光膜的边缘的微粒产生频率。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117590682A
(43)申请公布日2024.02.23
(21)申请号202310947439.4
(22)申请日2023.07.31
(30)优先权数据
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