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本发明涉及一种超分子组装体、其制备方法和用途、包含其的清洗液及其用途和使用其的蚀刻后半导体晶片清洗方法，所述超分子组装体由环糊精类化合物主体分子与还原性客体分子组成，所述清洗液包括所述超分子组装体、3‑吡啶基偕胺肟、酸、有机碱、N,N‑二乙基羟胺、多元醇、有机溶剂和水，所述超分子组装体通过独特的环糊精类化合物主体分子和还原性客体分子的选择与相互协同，具有诸多优异的技术效果，尤其是优异的残留物清除效果和非常低的金属腐蚀速率，可用于蚀刻后半导体晶片清洗领域，具有良好的应用前景和工业化生产潜力。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN113604298A
(43)申请公布日2021.11.05
(21)申请号202110851016.3B08B3/08(2006.01)
(22)申请日20
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