原创力文档- 1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
- 2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本发明提供一种存储器制备方法及存储器，其中的方法包括：在第一介质层上刻蚀金属槽，并在金属槽内填充第一金属；依次在第一介质层及第一金属上沉积第二介质层和三介质层；在第二介质层和第三介质层上设置孔洞，孔洞延伸至第一金属的上表面；同时，在第一介质层、第二介质层和第三介质层上设置OVL标识槽，OVL标识槽的深度自第三介质层延伸至第一介质层内；在孔洞和OVL标识槽内填充金属层；在金属层与OVL标识槽相对应的沟槽内填充第四介质层，并使第四介质层至少覆盖沟槽至与金属层齐平；对第四介质层、金属层及第三介质层进行
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117596894A
(43)申请公布日2024.02.23
(21)申请号202311324504.4
(22)申请日2023.10.12
(71)申请人昕原半导体(上海)有限公司
地址
文档评论（0）